特許
J-GLOBAL ID：200903043559549092
形状測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287891
公開番号（公開出願番号）：特開平5-126545
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：
【要約】【目的】 形状演算に要する画像処理時間を短縮し得ると共に、不要線の存在しない被測定物の形状線図を得ることができるようにすること。【構成】 演算処理部7は、メモリ6に記憶されている入力画像情報を1ラインづつ取り出し、第1スレッシュホールドレベルで二値化する。この二値化によって、その入力画像情報が第2次反射光の影響を受けているか否かの判断ができないときには第2スレッシュホールドレベルで二値化する。これらの二値化の結果に基づいて被測定物の形状を描くための画素を特定する。この画素に基づいて描いた形状に不要線が存在するときには、その不要線を削除する。
請求項（抜粋）：
レーザースリット光を被測定物に照射し、その反射光に基づいて該被測定物の形状を測定する形状測定装置において、前記反射光を入力してこれを所定の第1スレッシュホールドレベルで二値化する第1二値化手段と、当該第1二値化手段により第1スレッシュホールドレベル以上であるとして二値化された画素数を前回のこの第1二値化手段により二値化された画素数と比較して今回二値化された画素数が前回二値化された画素数よりも多いときには前記反射光に第2次反射光が存在していると判断する判断手段と、当該判断手段により前記第2次反射光の存在が認識された場合には、前記第2次反射光と正規の反射光との両存在が認識できるまで前記第1スレッシュホールドレベルよりもレベルが高い第2スレッシュホールドのレベルを逐次上げて前記反射光を二値化する第2二値化手段と、前記第1二値化手段あるいは第2二値化手段によりそれぞれのスレッシュホールドレベル以上であるとして二値化された画素に基づいて前記被測定物の形状を描くための画素を特定し、この特定された画素を配列して前記被測定物の形状を描く形状演算手段と、当該形状演算手段によって描かれた形状を両方向から辿り、両方向から連続していない部分が存在する場合には、その不連続部分を削除する形状補正手段とを有することを特徴とする形状測定装置。
IPC (2件)：
G01B 11/24
, G06F 15/62 415
