特許

J-GLOBAL ID：200903043560640605

塩水の処理方法

発明者： 松岡 輝美 ,  大原 正浩 ,  川村 泉
出願人/特許権者： クロリンエンジニアズ株式会社
代理人 (1件)： 赤野 牧子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-228935
公開番号（公開出願番号）：特開平8-067514
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】 塩水から硫酸イオンを安定的にかつより経済的な工業性の高く除去する塩水の処理方法の提供。【構成】 (1)硫酸イオンを含有する塩水と水酸化ジルコニウムを担持してなる粒状イオン交換樹脂とが、酸性下、流体による流動状態で分散接触させて硫酸イオンを吸着除去する硫酸イオン吸着工程、及び、(2)硫酸イオンを吸着した粒状イオン交換樹脂を該吸着工程のpH値より高pH値の水性液と流動状態で分散接触して吸着硫酸イオンを脱着する硫酸イオン脱着工程を有することを特徴とする塩水の処理方法。流動状態を、撹拌手段、気泡導入手段、または、充填層塩水流通手段により形成されることが好ましい。また、硫酸イオン吸着工程のpH値が1〜5であり、硫酸イオン脱着工程のpH値が3〜11であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

(1)硫酸イオンを含有する塩水と水酸化ジルコニウムを担持してなる粒状イオン交換樹脂とが、酸性下、流体による流動状態で分散接触させて硫酸イオンを吸着除去する硫酸イオン吸着工程、及び、(2)硫酸イオンを吸着した粒状イオン交換樹脂を該吸着工程のpH値より高pH値の水性液と流動状態で分散接触して吸着硫酸イオンを脱着する硫酸イオン脱着工程を有することを特徴とする塩水の処理方法。

IPC (3件)：

C01D 3/16 ,  B01D 15/04 ,  B01J 41/04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-300652
  
• 特開平4-334553
  
• 特開平3-153522