特許
J-GLOBAL ID：200903043566892711

洗浄方法、洗浄装置および電気光学装置

発明者：
細田 登志子

細田 登志子 について

, 
四谷 真一

四谷 真一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-403071
公開番号（公開出願番号）：特開2005-161190
出願日： 2003年12月02日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 低分子有機EL装置の蒸着マスクに付着した有機物を容易に除去することが可能な、洗浄方法および洗浄装置の提供を目的とする。【解決手段】 低分子有機EL装置の蒸着マスクに付着した有機物の洗浄装置1であって、蒸着マスク140をピロリドンの誘導体で処理する第1ステージ10と、蒸着マスク140を水リンス処理する第2ステージ20と、蒸着マスク140を流水リンス処理する第3ステージ30と、蒸着マスク140をエタノールで処理する第4ステージ40と、蒸着マスク140を乾燥させる第5ステージ50と、各ステージに対して蒸着マスク140を順次搬送する搬送手段5とを有する。ピロリドンの誘導体として、N-メチル-2-ピロリドンを採用することが望ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電気光学装置の製造装置に付着した有機物を、ピロリドンの誘導体を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (3件)：
B08B3/08 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (3件)：
B08B3/08 Z ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (10件)：
3B201AA46 ,  3B201AB13 ,  3B201BB02 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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