特許

J-GLOBAL ID：200903043583757011

コポリマー及びそれを含有してなる化粧料

発明者： 井柳 宏一
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-135294
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316422
出願日： 2000年05月09日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】 水溶性であって、使用後は疎水性の皮膜を形成するコポリマー及び/又はその塩及びそれを含有してなる、整髪などに有用な化粧料を提供する。【解決手段】 アクリル酸及びメタクリル酸の誘導体を構成モノマーとするコポリマーにおいて、同一分子内に親水基と親油基とを有し、30〜70°Cにおいて、曇点を有することを特徴とする、コポリマー及び/又はその塩を化粧料に含有させる。

請求項（抜粋）：

アクリル酸及びメタクリル酸の誘導体を構成モノマーとするコポリマーにおいて、同一分子内に親水基と親油基とを有し、30〜70°Cにおいて、曇点を有することを特徴とする、コポリマー及び/又はその塩。

IPC (4件)：

C08F220/00 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/11

FI (5件)：

C08F220/00 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/11

Fターム (41件)：

4C083AB052 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC28 ,  4C083CC31 ,  4C083CC32 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE03 ,  4C083EE11 ,  4C083EE28 ,  4C083FF04 ,  4J100AB02R ,  4J100AC03R ,  4J100AD02R ,  4J100AG04R ,  4J100AJ02R ,  4J100AL02Q ,  4J100AL02R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL09R ,  4J100AS02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA08P ,  4J100BA14P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA36 ,  4J100DA61 ,  4J100JA61

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-213221
  
• 熱可逆性ハイドロゲル材料およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-187903   出願人：荻田善一