特許

J-GLOBAL ID：200903043597741428

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 山中 司 ,  吉本 洋
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-063366
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260533
出願日： 1997年03月17日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 保存安定性、成分溶解性に優れ、塗れ残り、ストリエーション等の故障の無い、塗布均一性に優れ、更に耐熱性に優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する化合物、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)アルコキシブチルアセテート及び/又はアルコキシペンチルアセテートを含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する化合物、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)アルコキシブチルアセテート及び/又はアルコキシペンチルアセテートを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R