特許
J-GLOBAL ID:200903043600989738
レーザ加工機
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山田 恒光 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-149923
公開番号(公開出願番号):特開2001-334382
出願日: 2000年05月22日
公開日(公表日): 2001年12月04日
要約:
【要約】【課題】 構造の簡略化と処理能力の向上を図り得るレーザ加工機を提供する。【解決手段】 複数のレーザダイオードバー24をその発光部が直列に並ぶように配置したレーザ素子集合体21から出射されるレーザビームBを、シリンドリカルレンズ22により線状に集光し、移動機構23によって管材10を周方向へ回動させ、シリンドリカルレンズ22を経て管材10へ照射されるビーム入射位置を、管材10のビーム照射面に沿い且つビーム長手方向に交差する方向へ逐次移動させて、レーザビームBを走査する。
請求項(抜粋):
複数の半導体レーザ素子をその発光部が直列に並ぶように配置したレーザ素子集合体と、該レーザ素子集合体から出射されるレーザビームを線状に集光する光学素子と、該光学素子を経て加工対象物へ照射されるレーザビーム入射位置が当該加工対象物のビーム照射面に沿い且つビーム長手方向に交差する方向へ逐次移動し得るように加工対象物を変位させる移動機構とを備えたことを特徴とするレーザ加工機。
IPC (4件):
B23K 26/06
, B23K 26/08
, H01S 5/022
, H01S 5/40
FI (6件):
B23K 26/06 Z
, B23K 26/06 A
, B23K 26/08 B
, B23K 26/08 D
, H01S 5/022
, H01S 5/40
Fターム (6件):
4E068CD05
, 4E068CE02
, 4E068CE04
, 5F073AB02
, 5F073AB27
, 5F073BA09
前のページに戻る