特許

J-GLOBAL ID：200903043614346066

汚染水浄化方法及びその装置

発明者： 塩▲崎▼ 修 ,  正木 康浩 ,  岡野 純
出願人/特許権者： 共同酸素株式会社 ,  住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 溝上 満好 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-137947
公開番号（公開出願番号）：特開2000-325971
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 汚染水を、効率よくかつ安全に処理することができる工業的な汚染水処理方法及びこの方法を実施する装置を提供すること。【解決手段】 汚染水6を一旦貯留する処理槽2と、処理槽2内の汚染水6にオゾン含有気体を供給するオゾン発生器7及びこのオゾン発生器7と処理槽2をつなぐ気体供給管8と、気体供給管8を介して汚染水6に供給されたオゾン含有気体を微細気泡化する微細気泡発生器9と、汚染水6に波長の少なくとも一部が240〜320nmの範囲にある紫外線を照射する紫外線光源10と、処理槽2内における気相部分のガスを気相中で光触媒分解させる光触媒処理器12を備えた構成である。【効果】 汚染水中に含まれる有害物を効率よくオゾン-光複合酸化分解でき、オゾン-光複合酸化分解過程において気化した有害物や副生成物は、光触媒によって気相分解し、無害化することができる。

請求項（抜粋）：

オゾンを含有する気体を微細気泡として汚染水に供給しながらこの汚染水に紫外線を照射して、液相中で汚染物をオゾン-光複合酸化分解すると共に、気相中に移行した有害物や副生成物を気相中で光触媒分解させることを特徴とする汚染水浄化方法。

IPC (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32

FI (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32

Fターム (30件)：

4D037AA11 ,  4D037AA13 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037BB04 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB12 ,  4D050AB15 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA13 ,  4G069AA02 ,  4G069BA48A ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069CA10 ,  4G069CA19