特許

J-GLOBAL ID：200903043620895829

電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ装置及び薄膜の製造方法

発明者： 玉田 作哉
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-000551
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199061
出願日： 1999年01月05日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 装置構成を大規模化・複雑化せずにマルチターゲット化を実現する。【解決手段】 複数のターゲット材14を筒状に組み合わせて構成された筒状ターゲット11の内面側に、各ターゲット材14から所定の距離を保って回転自在とされたシールド板15を備える。シールド板15が、複数のターゲット材14のうち、所定のターゲット材14を遮蔽する。

請求項（抜粋）：

複数のターゲット材を筒状に組み合わせて構成された筒状ターゲットの内面側に、上記各ターゲット材から所定の距離を保って回転自在とされたシールド板を備え、上記シールド板は、上記複数のターゲット材のうち、所定のターゲット材を遮蔽することを特徴とする電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ装置。

IPC (3件)：

C23C 14/35 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/56

FI (3件)：

C23C 14/35 Z ,  C23C 14/34 B ,  C23C 14/56 J

Fターム (15件)：

4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029CA05 ,  4K029DA12 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC13 ,  4K029DC16 ,  4K029DC22 ,  4K029DC35 ,  4K029DC48 ,  4K029EA07 ,  4K029HA04 ,  4K029JA02