特許
J-GLOBAL ID：200903043621871710
軟磁性薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-022094
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211573
出願日： 1994年01月21日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 良好な軟磁気特性を安定して得ることのできる軟磁性薄膜の製造方法を提供する。【構成】 ガス雰囲気中でターゲットをスパッタすることにより基板上に軟磁性薄膜を形成するに際し、ガスとして不活性ガスと不飽和炭化水素系ガスとを用いることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
ガス雰囲気中でターゲットをスパッタすることにより基板上に軟磁性薄膜を形成するに際し、ガスとして不活性ガスと不飽和炭化水素系ガスとを用いることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
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