特許
J-GLOBAL ID：200903043631840910
炭素系複合材料及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275642
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117875
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 本発明は人工衛星やスペースシャトル等の宇宙機器の外壁等に用いられる炭素系複合材料及びその製造方法に関するものであり、その目的はジルコニア系セラミックス被膜の割れや剥離等を未然に防止して耐久性及び信頼性に優れた炭素系複合材料及びその製造方法を提供するものである。【構成】 本発明はC/Cコンポジット等の炭素系材料のマトリックス中にチタンを添加したチタン添加炭素系材料の表面に、モリブデン層と白金層から成る中間層を形成すると共に、該中間層の表面にジルコニア系セラミックス被膜を形成したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
炭素系材料のマトリックス中にチタンを添加したチタン添加炭素系材料の表面に、モリブデン層と白金層から成る中間層を形成すると共に、該中間層の表面にジルコニア系セラミックス被膜を形成したことを特徴とする炭素系複合材料。
IPC (3件)：
C23C 28/00
, C04B 35/52
, C04B 41/90
