チタン酸化物薄膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-262519
公開番号（公開出願番号）：特開平6-340422
出願日： 1991年09月17日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：

【要約】【目的】結晶性の均一なチタン酸化物薄膜を低い温度で製造する。【構成】有機チタン化合物を含むガスを、高周波放電によるプラズマ発生下で処理して、酸化マグネシウム基板上にチタン酸化物薄膜を形成させる。

請求項（抜粋）：

有機チタン化合物を含むガスを、高周波放電によるプラズマ発生下で処理して、酸化マグネシウム基板上にチタン酸化物薄膜を形成させることを特徴とするチタン酸化物薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

C01G 23/04 , C01G 23/07 , C23C 16/40 , C23C 16/50 , C30B 25/02

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