特許
J-GLOBAL ID：200903043645082970
転写マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172711
公開番号（公開出願番号）：特開平9-005985
出願日： 1995年06月15日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【目的】 耐久時間が長く実用化レベルの使用耐久性を有する転写マスクを提供する。【構成】 支持枠部12に支持された薄膜部13に開口11を形成してなる転写マスクであって、転写マスク表面上に導電層3を形成した転写マスクにおいて、転写マスク表面と導電層3との間に拡散防止層2を設ける。
請求項（抜粋）：
支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクであって、転写マスク表面上に導電層を形成した転写マスクにおいて、転写マスク表面と導電層との間に拡散防止層を設けたことを特徴とする転写マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 Z
, H01L 21/30 541 S
