特許
J-GLOBAL ID：200903043665629950
セラミツクス超電導導体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-194369
公開番号（公開出願番号）：特開平5-041117
出願日： 1991年08月02日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】【目的】 本発明は長尺にしてツイスト加工を施した多芯セラミックス超電導導体を低廉化に製造せんとする方法である。【構成】 本発明方法はセラミックス原料と金属とからなる複合ビレットに所望回数の断面減少加工を施して所定の形状を有する多芯状複合線材に成形すると同時に巻取ボビンを回転させて該複合線材に所定のピッチをうるようにツイスト加工を施したものである。
請求項（抜粋）：
超電導導体となしうるセラミックスの原料と金属とからなる複合ビレットに所望回数の断面減少加工を施して、多芯複合線材に成形した後、熱処理を行ってセラミックス超電導導体を製造する方法において、最終回の断面減少加工工程により所定形状を有する多芯複合線材に成形すると同時に、該複合線材に所定のピッチをうるように巻取りボビンを回転させてツイスト加工を施すことを特徴とするセラミックス超電導導体の製造方法。
IPC (3件)：
H01B 13/00 565
, B21F 7/00 ZAA
, H01B 12/10 ZAA
