特許

J-GLOBAL ID：200903043686454467

マルチチャンバ式成膜装置

発明者： 下里 義博
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 西岡 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-296649
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153693
出願日： 1993年11月26日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：

【要約】【目的】 設置面積が少なく、連続成膜が可能なマルチチャンバ成膜装置を提供する。【構成】中間室の周囲に配置された成膜工程に必要な複数の処理室と、中間室と各処理室との間の仕切弁とを備え、基板カートが前記処理室間を移動することで成膜室にて成膜を行うマルチチャンバ成膜装置において、前記中間室の周囲に配置された1つの予備室用の接続部に次にメンテナンスを行う処理室と同じ構成を有する予備室を接続するようにする。

請求項（抜粋）：

2つの基板トレイを対向するようにかつ縦姿勢で保持し成膜に必要な各工程を行う各処理室間を移動することで基板トレイ上の基板に成膜を行うマルチチャンバ式成膜装置において、中間室と、一連の成膜工程に必要な各工程のうちのひとつをそれぞれが行う複数の処理室と、中間室の側面に前記複数の処理室の数よりひとつ多く設けられ、各処理室のひとつを接続するための同一形状の接続部と、前記接続部より中間室側に取り付けられる仕切弁と、各処理室と同じ構成を有する各処理室の予備室とを備え、次にメンテナンスを行う処理室と同じ構成を有する予備室を前記接続部のひとつに接続するようにしたことを特徴とするマルチチャンバ成膜装置。