特許

J-GLOBAL ID：200903043689939232

露光方法およびその装置

発明者： 原 真一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-210403
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055778
出願日： 1994年08月11日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 マスクステージ上でマスクパターンの歪を解消する。【構成】 マスクチャック10の吸着リング11,12に吸着されたマスクE1の歪を、ウエハW1 とマスクE1 の位置合わせを行なうためのアライメントセンサ101c、レーザ測長装置103等を用いてマスクアライメントマークA1 〜A4 の間のマスクE1 の寸法を測定するマスク寸法測定装置40によって検出し、圧力制御装置30によって吸着リング11,12の真空吸着力を変化させる。

請求項（抜粋）：

吸着力を発生する原版保持手段に吸着保持された原版の歪を測定し、前記歪を前記原版保持手段の前記吸着力を制御することで低減したうえで、前記原版を経て照射される露光光によって基板を露光することを特徴とする露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68