特許

J-GLOBAL ID：200903043693624661

エポキシ化ジエン系ブロック共重合体の製造方法

発明者： 原野 芳行
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033272
公開番号（公開出願番号）：特開2000-230012
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 ジエン系ブロック共重合体中のビニル基をエポキシ化したエポキシ化ジエン系ブロック共重合体を安価、且つ、効率的に製造することを課題とする。更に、反応性に富むエポキシ基を持ち、マトリックス樹脂へ添加した時のグラフト結合形成等に有利な微粒子状エポキシ化ジエン系ブロック共重合体の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 ビニル芳香族化合物からなる重合体ブロック(A)と共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックまたはその部分水添物の重合体ブロック(B)とからなるブロック共重合体を溶剤に溶解した後、界面活性剤水溶液に分散し、酸化剤を用いてエポキシ化することを特徴とするエポキシ化ジエン系ブロック共重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

ビニル芳香族化合物からなる重合体ブロック(A)と共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックまたはその部分水添物の重合体ブロック(B)とからなるブロック共重合体を溶剤に溶解した後、界面活性剤水溶液に分散し、酸化剤を用いてエポキシ化することを特徴とするエポキシ化ジエン系ブロック共重合体の製造方法。

IPC (2件)：

C08F 8/08 ,  C08F297/04

FI (2件)：

C08F 8/08 ,  C08F297/04

Fターム (37件)：

4J026HA05 ,  4J026HA06 ,  4J026HA07 ,  4J026HA14 ,  4J026HA15 ,  4J026HA16 ,  4J026HA26 ,  4J026HA32 ,  4J026HB05 ,  4J026HB06 ,  4J026HB07 ,  4J026HB14 ,  4J026HB15 ,  4J026HB16 ,  4J026HB50 ,  4J026HC05 ,  4J026HC06 ,  4J026HC07 ,  4J026HC14 ,  4J026HC15 ,  4J026HC16 ,  4J026HC47 ,  4J026HC49 ,  4J026HE02 ,  4J026HE05 ,  4J026HE06 ,  4J100CA31 ,  4J100HA29 ,  4J100HB34 ,  4J100HC36 ,  4J100HD01 ,  4J100HD13 ,  4J100HE13 ,  4J100HG02 ,  4J100HG03 ,  4J100JA29 ,  4J100JA57

引用特許：

審査官引用 (2件)

• エポキシ変性重合体の水性分散液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-122914   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 重合体ラテックスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-251888   出願人：ダイセル化学工業株式会社