特許
J-GLOBAL ID：200903043694232490
投影露光装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-251156
公開番号（公開出願番号）：特開平10-141915
出願日： 1988年08月19日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】エキシマレーザなどを光源とする投影露光装置であっても、常に高精度なマスクと基板とのアライメントを可能とする。【解決手段】所定波長の照明光ILでレチクルRを照射する照明光学系と、照明光の波長に関して収差補正された投影光学系PLとを備えた投影露光装置において、投影光学系PLとは別に配置される対物光学系27を有し、対物光学系27を介して第1の光をウエハW上に照射する第1アライメント光学系(21〜25、29〜34)と、対物光学系27を介して第2の光をウエハw上に照射する第2アライメント光学系(81〜88)とを設け、レチクルRのパターンをウエハWに転写するために、第1アライメント光学系と第2アライメント光学系との少なくとも一方によって検出されるウエハW上のマークの位置に基づいて、レチクルRとウエハWとを相対移動する。
請求項（抜粋）：
所定波長の照明光でマスクを照射する照明光学系と、前記照明光の波長に関して収差補正された投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系とは別に配置される対物光学系を有し、該対物光学系を介して第1の光を前記基板上に照射する第1アライメント光学系と、前記対物光学系を介して第2の光を前記基板上に照射する第2アライメント光学系と、前記マスクのパターンを前記基板に転写するために、前記第1アライメント光学系と前記第2アライメント光学系との少なくとも一方によって検出される前記基板上のマークの位置に基づいて、前記マスクと前記基板とを相対移動する相対移動手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
G01B 11/00 C
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 B
