特許

J-GLOBAL ID：200903043702576586

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-029664
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229209
出願日： 2001年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。【解決手段】 ジスルホン基を有する、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び酸の作用により該樹脂と架橋を生じる架橋剤を含有する電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)ジスルホン基を有する、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤、を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17