特許

J-GLOBAL ID：200903043716277832

ブロック露光用データ管理方法並びにこれを用いたデータ管理装置及び荷電粒子ビーム露光システム

発明者： 小林 克彦
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-193377
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045599
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【目的】1枚のブロックマスク板を1枚の半導体ウエハ上の複数種の半導体チップに対応させて効率よく露光を行う。【構成】1枚の半導体ウエハ上に複数品種のチップ領域を割り当て、該複数品種の各々に対応して、1枚のブロックマスク上のマスクエリアを割り当て、チップ領域の露光データファイルの名称と、このチップ領域の露光に用いられるマスクエリアのマスクデータファイルの名称とを、共通部分をもたせることにより計算機上で対応させ、さらに、ブロックマスク識別コードと、マスクエリアの良否判定用試験結果と、マスクエリアの各々に対応した、該共通部分を含むデータファイル名とからなるマスク管理データファイルを備えている。

請求項（抜粋）：

ブロックマスク露光データと半導体ウエハ露光データとを管理するデータ管理方法であって、該ブロックマスク露光データに対応したブロックマスクは、通される荷電粒子ビームの断面を整形するための透過孔パターンが複数形成され、かつ、該複数の透過孔パターンが、荷電粒子ビームを偏向器で偏向可能な範囲であるマスクエリアに区分けされており、該半導体ウエハ露光データは、複数のチップ領域を露光するためのものであって該透過孔パターンの識別コードを用いて表されており、該識別コードは、該マスクエリア内の該透過孔パターンの位置に対応付けられており、1枚の該半導体ウエハ上に複数品種のチップ領域を割り当て、該複数品種の各々に対応して、1枚の該ブロックマスク上の該マスクエリアを割り当て、該チップ領域の半導体ウエハ露光データの集合である露光データファイルの名称と、該チップ領域の露光に用いられる該マスクエリアのブロックマスク露光データの集合であるマスクデータファイルの名称とを計算機上で関係付けて対応させたことを特徴とするブロック露光用データ管理方法。