特許

J-GLOBAL ID：200903043720968203

ポリチオフェン

発明者： シユテフアン・キルヒマイアー ,  クラウス・ブソウ ,  フリードリヒ・ヨナス ,  アンドレアス・エルシユナー
出願人/特許権者： バイエル アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-355941
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206022
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】 無水溶媒又は低含水率溶媒に容易に溶解性又は分散性である高い品質のポリチオフェンの製造方法を提供すること。【解決手段】 無水溶媒又は低含水率溶媒に可溶性又は分散可能なポリチオフェンは、ポリチオフェンを無水又は低含水率溶媒中で且つ相間移動触媒を反応中に添加する場合に得ることができる。

請求項（抜粋）：

a)一般式(I)【化1】式中、R1は1〜10個の炭素原子を有する未置換のもしくは置換されたアルキレン又はアルケニレン基であり、そしてR及びR2は互いに独立に水素、1〜20個の炭素原子を有する線状もしくは分岐状アルキル基、OH、O-CH2-CH2-CH2-SO3H、又は1〜18個の炭素原子を有するO-アルキルである、で示される1種又はそれ以上のチオフェン、b)1個又はそれ以上のスルホン酸基を含有する少なくとも1種の化合物、c)少なくとも1種の酸化剤、d)少なくとも1種の相間移動触媒、及びe)所望により1種又はそれ以上の触媒、を少なくとも1種の無水溶媒又は低含水率溶媒中で0〜150°Cの温度で反応させ、次いで生成物を処理することを特徴とするポリチオフェンの製造方法。

IPC (3件)：

C08G 61/12 ,  C09D 5/24 ,  C09D165/00

FI (3件)：

C08G 61/12 ,  C09D 5/24 ,  C09D165/00

Fターム (9件)：

4J032BA04 ,  4J032BB01 ,  4J032BC02 ,  4J032BC03 ,  4J038CR071 ,  4J038DA011 ,  4J038DF001 ,  4J038GA12 ,  4J038NA20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• コンデンサおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-118928   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平1-313521
  

審査官引用 (2件)

• コンデンサおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-118928   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平1-313521
  

引用文献：

出願人引用 (1件)

• MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS, 1998, 第327巻, 237-240頁

審査官引用 (1件)

• MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS, 1998, 第327巻, 237-240頁