特許
J-GLOBAL ID:200903043726628838

塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 塩川 修治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-348962
公開番号(公開出願番号):特開平7-185433
出願日: 1993年12月28日
公開日(公表日): 1995年07月25日
要約:
【要約】【目的】 良好な塗布を実現できる塗布操作領域の範囲を拡大すること。【構成】 上流側リップ24及び下流側リップ25を備え、これらのリップ間に塗布液22を押出し可能なスロット部26が形成され、上流側リップ及び下流側リップに対向して走行するウエブ21に塗布液を塗布する塗布装置において、上流側リップ及び下流側リップによりウエブ21が屈曲して走行可能とされ、下流側リップには、ウエブに対向して塗布液に接する塗布作業面29がウエブ側に凸に湾曲して形成され、この塗布作業面のウエブ走行方向長さL1 が約 1mm以下に設定されたものである。
請求項(抜粋):
上流側リップ及び下流側リップを備え、これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、上記上流側リップ及び上記下流側リップにより上記支持体が屈曲して走行可能とされ、上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布液に接する塗布作業面が上記支持体側に凸に湾曲して形成され、この塗布作業面の上記支持体走行方向長さが約 1mm以下に設定されたことを特徴とする塗布装置。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 磁気記録媒体の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-235684   出願人:富士写真フイルム株式会社
  • 特開平4-004071

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