薄膜の製造方法およびその製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上島淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-181857
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252660
出願日： 1994年07月11日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】膜厚、膜質が大面積にわたって均一な薄膜を、硬X線領域において使用される光学素子の多層膜を作製可能な高精度で基板などの物体表面に形成することのできる薄膜の製造方法およびその製造装置を提供する。【構成】真空容器10内に薄膜を形成すべき物体をセットし、この真空容器10内を所定の圧力以下に減圧した後に、酸化剤、ハロゲン化剤、硫化剤、セレン化剤、テルル化剤もしくは窒化剤の蒸気と金属化合物蒸気もしくは非金属化合物蒸気とを、交互に少なくとも1回づつ減圧した真空容器10内に導入して物体表面で吸着および化学反応させ、物体表面に薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

真空容器内に薄膜を形成すべき物体をセットし、前記真空容器内を所定の圧力以下に減圧した後に、酸化剤、ハロゲン化剤、硫化剤、セレン化剤、テルル化剤もしくは窒化剤の蒸気と金属化合物蒸気もしくは非金属化合物蒸気とを、交互に少なくとも1回づつ減圧した前記真空容器内に導入して前記物体表面で吸着および化学反応させ、前記物体表面に薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

C23C 16/44 , C23C 16/34 , C23C 16/40 , H01L 21/203 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-361531
特開平1-179710
特開昭63-161403

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