特許

J-GLOBAL ID：200903043769335184

酸化チタン超微粒子分散シリカゲルの製造方法

発明者： 堀内 達郎 ,  杉山 豊彦 ,  高嶋 廣夫 ,  安江 和夫 ,  宇敷 建一
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院名古屋工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-109954
公開番号（公開出願番号）：特開平6-298520
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【構成】 酸化チタン超微粒子をシリカコロイドに分散したのち、コロイドをゲル化し、次いで焼成することにより、酸化チタン超微粒子を分散状態で含むシリカゲルを製造する方法である。【効果】 量子閉じ込め効果を有し、透明性の良好な酸化チタン超微粒子分散シリカゲルを、容易に入手可能な原料を用いて、簡単な操作で得ることができる。

請求項（抜粋）：

酸化チタン超微粒子をシリカコロイドに分散したのち、コロイドをゲル化し、次いで焼成することを特徴とする酸化チタン超微粒子分散シリカゲルの製造方法。