特許
J-GLOBAL ID:200903043771760917

フォトニック結晶素子の作製方法及び作製装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 草野 卓 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-058659
公開番号(公開出願番号):特開2001-249234
出願日: 2000年03月03日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 簡易な作製方法を提供する。【解決手段】 ポリマー媒質中に微粒子23を配列分散してコンポジットマテリアル24を作製し、そのコンポジットマテリアル24を高密度圧縮成形することにより、フォトニック・バンドギャップを発現する大きさに縮小してフォトニック結晶素子26を得る。微粒子23のポリマー媒質中への配列は操作の容易なスケール(数10μm〜数mm)で行える。
請求項(抜粋):
ポリマー媒質中に微粒子を配列分散してコンポジットマテリアルを作製し、そのコンポジットマテリアルを高密度圧縮成形することにより、フォトニック・バンドギャップを発現する大きさに縮小してフォトニック結晶素子を得ることを特徴とするフォトニック結晶素子の作製方法。
IPC (2件):
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (3件):
G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (2件):
2H047PA00 ,  2H047PA28

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