特許

J-GLOBAL ID：200903043780180850

紫外線吸収性材料の製造方法

発明者： 朝野 剛 ,  高江洲 昇 ,  錦谷 禎範
出願人/特許権者： 日本石油株式会社
代理人 (1件)： 酒井 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-167116
公開番号（公開出願番号）：特開平10-008027
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：

【要約】【課題】合成が容易で、長期に渡る使用においても紫外線吸収剤がブリードアウトせず、高濃度に紫外線吸収剤を含有させて長波長カットを実現しても弊害の生じない紫外線吸収性材料の製造方法を提供すること。【解決手段】(a)式(1)のアミノシラン化合物又はその誘導体と、【化1】(R1:C1〜10のアルキレン基、式-(CH2)m-NH-(1≦m≦4の整数)の2価の基、R2:H、OH、C1〜10のアルキル基、C1〜10のアルコキシ基。但しR2の1つはアルコキシ基。n≧0の整数)、(b)分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤とを少なくとも反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導体に由来するアミド結合を生成せしめることを特徴とする紫外線吸収性材料の製造方法。

請求項（抜粋）：

(a)一般式(1)に示されるアミノシラン化合物又はその誘導体と、【化1】(式中、R1は炭素数1〜10のアルキレン基又は一般式-(CH2)m-NH-(mは1≦m≦4の整数)で表される2価の基を示し、各々のR2は同一若しくは異なる基であって、水素原子、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。但し全てのR2のうち少なくとも1つはアルコキシ基を示す。nはn≧0の整数を示す。)(b)分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤とを少なくとも反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導体に由来するアミド結合を生成せしめることを特徴とする紫外線吸収性材料の製造方法。

IPC (4件)：

C09K 3/00 104 ,  C09K 3/00 ,  C08G 77/04 NUA ,  C08G 77/48 NUM

FI (4件)：

C09K 3/00 104 A ,  C09K 3/00 104 C ,  C08G 77/04 NUA ,  C08G 77/48 NUM