特許

J-GLOBAL ID：200903043782261890

走査露光方法及び装置

発明者： 水谷 真士 ,  馬込 伸貴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-305616
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145032
出願日： 1997年11月07日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 走査速度を高速にするか、又はレチクルを大型化した場合等でも、レチクルの位置ずれを生じることなく走査露光を行う。【解決手段】 レチクルステージRST上でレチクルRをレチクルホルダ7A及び7Bによって走査方向に挟み込んで保持する。レチクルRは、非走査方向には殆ど撓まず、走査方向にはほぼ一定の円弧状に撓んだ状態で保持される。露光前に予め、又は走査露光時に変位センサ8AによってレチクルRのZ方向への撓み量を計測し、レチクルR及びウエハWを投影光学系PLに対して同期走査して露光を行う際に、その撓み量の計測結果に基づいてウエハWのZ方向の位置を制御することによって、レチクルRの撓みによって生じるデフォーカス量を補正する。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期して移動することにより、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して前記基板上に転写する走査露光方法において、前記マスクを走査方向に沿って挟み込むことで撓ませた状態で、走査露光を行うことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A