特許

J-GLOBAL ID：200903043783114190

ポリシラン及びその製造方法

発明者： 田中 正人 ,  バヌ ピー エス チョーハン
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338062
公開番号（公開出願番号）：特開平11-222525
出願日： 1996年08月29日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】 オルガノジヒドロシランを脱水素縮合し、重合度の高いポリシランを得る方法及びポリシランを提供する。【解決手段】 一般式(I)【化1】(式中、R1は炭素数12以下の2価の炭化水素基を示す。)で表される環状オルガノジヒドロシランを、有機基のみを配位子とする白金錯体触媒の存在下に脱水素縮合反応させることを特徴する、一般式(II)【化2】(式中、R1は前記と同じ意味を有し、nは10以上の数を示す。)で表されるポリシランの製造方法。また、一般式(II)【化3】(式中、R1は炭素数12以下の2価の炭化水素基を示し、nは10以上の数を示す。)で表されるポリシラン。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1は炭素数12以下の2価の炭化水素基を示す。)で表される環状オルガノジヒドロシランを有機基のみを配位子とする白金錯体触媒の存在下に脱水素縮合反応させることを特徴する、一般式(II)【化2】(式中、R1は前記と同じ意味を有し、nは10以上の数を示す。)で表されるポリシランの製造方法。