特許
J-GLOBAL ID：200903043789514948

近接スキャン露光装置及びその制御方法

発明者：
近藤 俊之

近藤 俊之 について


出願人/特許権者：
日本精工株式会社

日本精工株式会社 について


代理人 (3件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-160256
公開番号（公開出願番号）：特開2008-310249
出願日： 2007年06月18日
公開日（公表日）： 2008年12月25日
要約：
【課題】浮上ユニットによって浮上・支持される基板の浮上量を精度よく制御して、露光精度を向上させることができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】近接スキャン露光装置1は、基板Wを浮上・支持する浮上ユニット16及び基板駆動ユニット17を備える基板搬送機構10と、マスクMを保持するマスク保持部11と、基板Wの浮上量を検出する基板ギャップセンサ60とを備え、基板ギャップセンサ60によって検出された基板Wの浮上量と目標浮上量との差に基づいて制御部15が浮上ユニット16のエア流量及びエア圧力を調節し、基板Wの浮上量を精度よく制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を浮上させて支持する浮上ユニット、及び該基板を把持しながら所定方向に搬送する基板駆動ユニットを備える基板搬送機構と、マスクを保持するマスク保持部と、前記基板搬送機構に搬送される前記基板の浮上量を検出するセンサと、を備え、前記マスクに近接しながら所定方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接スキャン露光装置の制御方法であって、 前記センサによって前記基板の浮上量を検出する工程と、 前記検出された基板の浮上量と目標浮上量との差が許容値を越えている時、前記浮上ユニットのエア流量とエア圧力の少なくとも一方を制御する工程と、 を備えることを特徴とする近接スキャン露光装置の制御方法。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/68
FI (2件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/68 F
Fターム (35件)：
2H097AB07 ,  2H097GA45 ,  2H097JA01 ,  2H097LA11 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA02 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA08 ,  5F031GA10 ,  5F031GA13 ,  5F031GA44 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031GA62 ,  5F031HA57 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031JA06 ,  5F031JA10 ,  5F031JA14 ,  5F031JA19 ,  5F031JA30 ,  5F031JA32 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031KA10 ,  5F031LA12 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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