特許
J-GLOBAL ID：200903043792079527
熱処理装置及びその熱処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
瀧野 秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084388
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294569
出願日： 1994年04月22日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 加熱炉内の導電層の抵抗値の変化を非接触型の抵抗検出手段で検出し、加熱炉内の温度を制御することで導電層の抵抗値の変化を正確に制御し得る熱処理装置及びその熱処理方法を提供することを目的とするものである。【構成】 加熱炉10が石英チェンバ11と、その上側に垂設された渦流センサ17を収納する石英ガラス管11aと、その石英チェンバ11の上下に設けられた加熱ランプ14とを含み、加熱炉10の温度を制御する温度制御系が、加熱ランプ14を制御するランプ制御回路16と、加熱された石英チェンバ11内に投入されたウエハに形成されるシリサイド層の抵抗値を検出する渦流センサ17と、渦流センサ17からの信号を補正してランプ制御回路16に信号を出力する渦流センサ演算回路18とからなるものである。
請求項（抜粋）：
導電層を形成する熱処理装置に於いて、加熱炉と、前記加熱炉内で形成される導電層の抵抗値の変化を検出する非接触型の抵抗値検知手段と、前記抵抗値検出手段からの出力に基づいて前記加熱炉の温度を制御する制御手段と、を有することを特徴とする熱処理装置。
IPC (5件)：
G01R 27/02
, G01N 25/00
, G05D 23/00
, H01L 21/26
, H01L 21/324
