特許

J-GLOBAL ID：200903043796003932

圧電体薄膜素子の製造方法、この圧電体薄膜素子を用いたインクジェット式記録ヘッド、並びにこの記録ヘッドを用いたインクジェット式プリンタ

発明者： 亀井 宏行 ,  松崎 真 ,  西脇 学 ,  島田 勝人 ,  松沢 明
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282897
公開番号（公開出願番号）：特開平11-192713
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 所望の組成が得られ、良好な圧電体歪み特性を発揮でき、アクチュエータとして良好に機能する圧電体薄膜素子を提供する。【解決手段】 基板10上に下部電極14を形成し、この下部電極上に圧電体の前駆体薄膜層を形成してこれにパターニングを施し、その後この基板に水熱処理のための加熱溶液を適用することにより前駆体薄膜層を選択的に結晶化させて圧電体薄膜層を得る。

請求項（抜粋）：

基板上に下部電極層、圧電体薄膜層、次いで上部電極層を形成してなる圧電体薄膜素子の製造方法において、前記下部電極上に圧電体の前駆体薄膜層を形成してこれにパターニングを施し、その後、この基板に水熱処理のための加熱溶液を適用することにより前記前駆体薄膜層を選択的に結晶化させて前記圧電体薄膜層を得る、ことを特徴とする圧電体薄膜素子の製造方法。

IPC (5件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/22

FI (4件)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 A ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/22 Z

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 圧電素子ユニット及びその製造方法並びにその圧電素子ユニットを用いたインクジェット記録ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-178338   出願人：富士電機株式会社
• 圧電体薄膜およびその製造法ならびにそれを用いたインクジェット記録ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-081690   出願人：セイコーエプソン株式会社