新規スルホン酸誘導体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：栗原浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137292
公開番号（公開出願番号）：特開2003-327572
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】レジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた光酸発生剤であって、現像後のパターン形成時、更にレジスト剥離時に異物を生じず、エッジラフネスなどの影響が少なく、パターン形状に優れ、PED安定性に優れたレジスト材料に用いられる光酸発生剤及び光発生酸を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されるスルホン酸誘導体とする。【化1】(式中、Rは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基を示す。Rfは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のパーフルオロアルキル基を示す。Mm+は対カチオンであり、mは整数である。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるスルホン酸誘導体。【化1】(式中、Rは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基を示す。Rfは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のパーフルオロアルキル基を示す。Mm+は対カチオンであり、mは整数である。)

IPC (5件)：

C07C309/19 , C07C309/06 , C07C381/12 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (5件)：

C07C309/19 , C07C309/06 , C07C381/12 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Fターム (10件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 4H006AA01 , 4H006AB40

引用文献：

審査官引用 (2件)

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