特許

J-GLOBAL ID：200903043807492590

レーザ走査光学装置の製造方法

発明者： 大谷 典孝 ,  菅野 浩明
出願人/特許権者： コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社
代理人 (1件)： 森下 武一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-145590
公開番号（公開出願番号）：特開2005-326691
出願日： 2004年05月14日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：

【課題】 レーザ溶接に起因するベースプレートや板金部材の変形を抑えて光学素子の位置(姿勢)変化を防止し、走査用のレーザビームを高精度に結像させることのできるレーザ走査光学装置の製造方法を得る。 【解決手段】 レーザダイオード1を保持する板金部材10の水平面部10aとベースプレート15とを溶接する際、板金部材の水平面部10aとベースプレート15との間にスペーサ12を介在させて隙間11を設け、該隙間11を設けた領域にて少なくとも1箇所をレーザ溶接、好ましくはYAGレーザ溶接する。隙間11を設けるには、板金部材10の水平面部10aの板厚を部分的に薄くすること、水平面部の裏面に突出部を設けることでもよく、あるいは、板金部材10を保持治具によって保持してもよい。 【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光学素子を保持する板金部材と該板金部材を固定するためのベースプレートとを溶接する際、前記板金部材と前記ベースプレートとの間に隙間を設け、該隙間を設けた領域にて少なくとも1箇所をレーザ溶接することを特徴とするレーザ走査光学装置の製造方法。

IPC (3件)：

G02B26/10 ,  B41J2/44 ,  G02B7/00

FI (3件)：

G02B26/10 F ,  G02B7/00 F ,  B41J3/00 D

Fターム (8件)：

2C362AA42 ,  2C362AA45 ,  2C362BA90 ,  2C362DA03 ,  2H043AE02 ,  2H043AE18 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光源装置及び光ビーム走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-287196   出願人：ミノルタ株式会社