特許
J-GLOBAL ID：200903043819782608

美容器

発明者：
大村 真吾

大村 真吾 について


出願人/特許権者：
パナソニック電工株式会社

パナソニック電工株式会社 について


代理人 (2件)： 西川 惠清 ,  森 厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-146014
公開番号（公開出願番号）：特開2008-295812
出願日： 2007年05月31日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：
【課題】楽な姿勢でスチームとミストを肌に当てることができ、しかも肌に当たるミスト範囲も拡大できると共にミストの粒径が小さいままミスト量を増加することができ、使用性と温冷刺激による肌の活性化効果を十分に向上させること。【解決手段】給水経路24から供給される水を加熱して発生させたスチームを放電によりイオン化してスチームノズル1から噴出させるスチーム発生機構10と、給水経路24から供給される水とポンプ8から圧送される空気とを混合して得られるミストをミストノズル2から噴出させるミスト発生機構20とを備え、スチームやミストにより温あるいは冷の熱的刺激を与えるにあたって、上記ミスト発生機構20はミストを噴出するミストノズル2を複数個備えると共に、この複数個のミストノズル2を上記スチームノズル1の周囲に間隔をあけて配置した美容器Cである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
給水経路から供給される水を加熱して発生させたスチームを放電によりイオン化してスチームノズルから噴出させるスチーム発生機構と、給水経路から供給される水とポンプから圧送される空気とを混合して得られるミストをミストノズルから噴出させるミスト発生機構とを備え、スチームやミストにより温あるいは冷の熱的刺激を与える美容器であって、上記ミスト発生機構はミストを噴出するミストノズルを複数個備えると共に、この複数個のミストノズルを上記スチームノズルの周囲に間隔をあけて配置したことを特徴とする美容器。
IPC (2件)：
A61H 33/06 ,  A61H 33/10
FI (2件)：
A61H33/06 Q ,  A61H33/10 A
Fターム (10件)：
4C094AA01 ,  4C094BA16 ,  4C094BA18 ,  4C094BA19 ,  4C094BC11 ,  4C094DD09 ,  4C094EE03 ,  4C094EE08 ,  4C094FF02 ,  4C094GG06
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 登録実用新案第3054750号公報
  • 美顔器
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-279381   出願人：日東工器株式会社, 株式会社フジ医療器, 株式会社ナリス化粧品
審査官引用 (2件)
  • 美顔器
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-176464   出願人：松下電工株式会社
  • 特開昭57-185864

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