特許

J-GLOBAL ID：200903043829433202

基材又は基盤表面の接触角の増加防止方法及び装置

発明者： 藤井 敏昭 ,  鈴木 作 ,  鈴木 英友 ,  坂本 和彦
出願人/特許権者： 荏原インフィルコ株式会社 ,  株式会社荏原総合研究所
代理人 (1件)： 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-341802
公開番号（公開出願番号）：特開平5-157284
出願日： 1991年12月02日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ、半製品、製品等の基材又は基盤の接触角を増加する汚染物質を効果的に除去できる接触角の増加防止方法及び装置を提供する。【構成】 基材又は基盤表面の接触角の増加を防止する方法において、該基材又は基盤と接触する空気を、除塵手段、及び吸着及び/又は吸収手段により、該空気中の微粒子及びガス状の有害物質を除去して、前記基材又は基盤と接触させることとしたものであり、また、該装置として、該基材又は基盤と接触する空気を通す微粒子を除去するための除塵装置3とガス状有害物質を除去するためのガス吸着及び/又は吸収除去装置4を備えることとしたものである。

請求項（抜粋）：

基材又は基盤表面の接触角の増加を防止する方法において、該基材又は基盤と接触する空気を、除塵手段、及び吸着及び/又は吸収手段により、該空気中の微粒子及びガス状の有害物質を除去して、前記基材又は基盤と接触させることを特徴とする接触角の増加防止方法。

IPC (2件)：

F24F 3/16 ,  H01L 21/02