特許
J-GLOBAL ID：200903043833404829
ガス処理装置および放熱方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004012466
公開番号（公開出願番号）：WO2005-024928
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
シャワーベース(41)、ガス拡散板(42)、シャワープレート(43)を積み重ねて構成され、ガス拡散板(42)の両面に形成された第1ガス拡散部(42a)、第2ガス拡散部(42b)、およびシャワープレート(43)に形成され第1ガス拡散空間(42c)に連通する第1ガス吐出口(43a)、第2ガス拡散空間(42d)に連通する第2ガス吐出口(43b)を介して載置台(5)上のウエハWに原料ガスおよび酸化剤ガスを供給するシャワーヘッド(40)において、第1ガス拡散部(42a)内にシャワーベース(41)の下面に密着する複数の伝熱柱(42e)を設けてその間の部分が第1ガス拡散空間(42c)となるようにし、この伝熱柱42eにより載置台5から受ける輻射熱をシャワーヘッド(40)の厚さ方向に伝達する。
請求項（抜粋）：
被処理基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内に配置され、被処理基板が載置される載置台と、
前記載置台と対向する位置に設けられ、前記処理容器内へ処理ガスを吐出する処理ガス吐出機構と、
前記処理容器内を排気する排気機構と
を具備し、
前記処理ガス吐出機構は、
前記処理ガスが導入されるガス導入部と、
前記載置台に向けて処理ガスを吐出するための複数のガス吐出孔を有するガス吐出部と、
前記ガス導入部と前記ガス吐出部との間に設けられたガス拡散部と
を有し、
前記ガス拡散部は、
前記ガス導入部と前記ガス吐出部との間の熱伝達を行う複数の伝熱柱と、
前記ガス吐出孔に連通し、前記伝熱柱以外の部分を構成するガス拡散空間と
を有するガス処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA05
, 4K030FA10
, 4K030JA10
, 4K030KA25
, 4K030KA26
, 4K030KA41
, 4K030LA15
, 5F045AA04
, 5F045AB31
, 5F045DP03
, 5F045EE02
, 5F045EE20
, 5F045EF05
, 5F045EF13
, 5F045EJ10
, 5F045EK07
