特許
J-GLOBAL ID:200903043837587537

水溶性フォトレジストパターンの硬膜処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萼 経夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-299725
公開番号(公開出願番号):特開平6-118661
出願日: 1991年10月19日
公開日(公表日): 1994年04月28日
要約:
【要約】【目的】 取扱い性、有害性に問題のない水溶性フォトレジスト用の硬膜処理方法を提供する。【構成】 カゼインを主成分とする水溶性フォトレジストパターンを硬膜剤で処理後加熱することにより、該レジストパターンの耐食性皮膜を強化する方法において、酢酸ジルコニウムを主成分とする水溶液を硬膜剤として使用することを特徴とする。【効果】 取扱い性、有害性に問題がなく、エッチファクターの大きくなる硬膜処理ができるとともに、従来の硬膜剤で生じていたクロムによる排水公害等の問題が解決される。
請求項(抜粋):
カゼインを主成分とする水溶性フォトレジストパターンを硬膜剤で処理後加熱することにより該レジストパターンの耐食性皮膜を強化する方法において、酢酸ジルコニウムを主成分とする水溶液を硬膜剤として用いることを特徴とする水溶性フォトレジストの硬膜処理方法。
IPC (5件):
G03F 7/40 502 ,  G03F 7/40 501 ,  C01G 25/00 ,  H01J 9/14 ,  H01J 29/07
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭53-103732
  • 特開昭53-103732

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