特許

J-GLOBAL ID：200903043840681765

ジルコニアゾルの製造方法

発明者： 俵迫 祐二 ,  平井 俊晴
出願人/特許権者： 触媒化成工業株式会社
代理人 (1件)： 石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-421497
公開番号（公開出願番号）：特開2005-179111
出願日： 2003年12月18日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】 均一な粒子径分布を有し、安定性に優れたコロイド領域のジルコニアゾルを製造する。【解決手段】 次の工程(a)〜(d)からなり、平均粒子径が5〜100nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したゾルを製造する。(a)粒子成長調整剤の存在下、ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ水溶液を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程、(b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程、(c)粒子成長調整剤の存在下、前記ジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を水熱処理する工程、および、(d)前記水熱処理したジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程である。粒子成長調整剤はカルボン酸またはヒドロキシカルボン酸とし、水熱処理を100〜250°Cの温度範囲で行う。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記の工程(a)〜(d)からなることを特徴とする、平均粒子径が5〜100nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したゾルの製造方法。 (a)粒子成長調整剤の存在下、ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ水溶液を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程 (b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程 (c)粒子成長調整剤の存在下、前記ジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を水熱処理する工程 (d)前記水熱処理したジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程

IPC (1件)：

C01G25/02

FI (1件)：

C01G25/02

Fターム (5件)：

4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD04 ,  4G048AE06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ジルコニアゾルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-318444   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 水和ジルコニアゾルおよびジルコニア粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-207280   出願人：東ソー株式会社