特許
J-GLOBAL ID：200903043844489001
半導体製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-192738
公開番号（公開出願番号）：特開2009-032756
出願日： 2007年07月25日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：
【課題】支持部とワークテーブルとの間の空間に発生するよどみ領域を解消して、ワークテーブル上を清浄な状態にすることを可能とする。【解決手段】第1室11と、それに隣接して設けた第2室12と、両室間を移動可能とするワークテーブル23と、ワークテーブル23の移動領域上の両室間の境界に設けられていてワークテーブル23上の被処理物50を処理する処理部25が支持されている支持部24と、支持部24の側面もしくは支持部24の外周部に両室間を仕切る隔壁13と、第1室11の天井部に設けられていて該第1室11内に送風する第1ファンフィルタ15と、第2室12の天井部に設けられていて該第2室12内に送風する第2ファンフィルタ16とを備え、支持部24とワークテーブル23の移動領域との間の空間14で第1室11と第2室12とが連通されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1室と、
前記第1室に隣接して設けた第2室と、
前記第1室と前記第2室との間を移動可能とするワークテーブルと、
前記ワークテーブルの移動領域上の前記第1室と前記第2室との境界に設けられていて前記ワークテーブル上の被処理物を処理する処理部が支持されている支持部と、
前記支持部の側面もしくは前記支持部の外周部に前記第1室と前記第2室とを仕切る隔壁と、
前記第1室の天井部に設けられていて該第1室内に送風する第1ファンフィルタと、
前記第2室の天井部に設けられていて該第2室内に送風する第2ファンフィルタとを備え、
前記支持部と前記ワークテーブルの移動領域との間の空間で前記第1室と前記第2室とが連通されている
ことを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/268 G
, H01L21/02 D
