特許
J-GLOBAL ID:200903043848030593

真空排ガスフィルター

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-051920
公開番号(公開出願番号):特開平7-256022
出願日: 1994年03月23日
公開日(公表日): 1995年10月09日
要約:
【要約】【目的】 半導体製造プロセスの真空排気系より排出される有害性ガス、ミスト及びダスト状物質を効率的に捕捉できる真空排ガスフィルターを提供する。【構成】 特定量のイオン性基を含有する繊維の集合体からなる真空排ガスフィルター。【効果】 該フィルターを使用することにより、除害設備は不用となり更に排気系のメンテナンスも皆無に出来る。
請求項(抜粋):
0.1〜6.0mmol/gのイオン性基を含有する繊維の集合体からなる半導体製造プロセス真空排気系用の真空排ガスフィルター。
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平4-193314
  • 特開平3-121145
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-193314
  • 特開平4-193314
  • 特開平3-121145
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