特許
J-GLOBAL ID:200903043852984534

高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木戸 一彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-336318
公開番号(公開出願番号):特開2001-152314
出願日: 1999年11月26日
公開日(公表日): 2001年06月05日
要約:
【要約】【課題】 煤の発生を抑制するとともに、爆発の危険性も回避しながら、高温迅速浸炭用雰囲気ガスとして好適な一酸化炭素を高濃度に含む変成ガスを安定して発生させることができる高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法を提供する。【解決手段】 炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスをニッケル触媒層に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記ニッケル触媒層の途中に、炭化水素を導入する炭化水素導入部を設ける。
請求項(抜粋):
炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスをニッケル触媒層に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記ニッケル触媒層の途中に、炭化水素を導入する炭化水素導入部を設けたことを特徴とする高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置。
Fターム (2件):
4K028AA01 ,  4K028AC08
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • 特開平4-268062
  • 特開昭63-274752
  • 特開平1-165715
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