特許

J-GLOBAL ID：200903043853724609

ネガ型感放射線性樹脂組成物

発明者： 甲斐 敏之 ,  大田 芳久 ,  一戸 大吾
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-142750
公開番号（公開出願番号）：特開2001-324811
出願日： 2000年05月16日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：

【要約】【課題】 通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン(1L1S)において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 ネガ型感放射線性樹脂組成物は、(A)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)α-ヒドロキシイソプロピル基および/またはα-ヒドロキシイソプロピル基の酸解離性誘導体を有する化合物を含有することを特徴とする。(C)成分は、1,3-ビス(α-ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン、4,4’-ビス(α-ヒドロキシイソプロピル)ビフェニル、2,6-ビス(α-ヒドロキシイソプロピル)ナフタレン等に代表される。

請求項（抜粋）：

(A)フェノール性水酸基を有する重合性不飽和化合物の重合性不飽和結合が開裂した繰返し単位と、非置換または置換の他のスチレン系化合物の重合性不飽和結合が開裂した繰返し単位とを有するアルカリ可溶性樹脂、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)α-ヒドロキシイソプロピル基および/またはα-ヒドロキシイソプロピル基の酸解離性誘導体を有する化合物を含有することを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 ,  C08F 8/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 ,  C08F 8/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (72件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF14 ,  2H025BF15 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB04Q ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB08Q ,  4J100AB09Q ,  4J100AB10Q ,  4J100AJ02R ,  4J100AJ08R ,  4J100AJ09R ,  4J100AK32R ,  4J100AL03R ,  4J100AL04R ,  4J100AL05R ,  4J100AL08R ,  4J100AL09R ,  4J100AL11R ,  4J100AM02R ,  4J100AM03R ,  4J100AM08R ,  4J100AM15R ,  4J100AM19R ,  4J100AM21R ,  4J100AM43R ,  4J100AM47R ,  4J100AM48R ,  4J100AQ07R ,  4J100AQ08R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BB01R ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC43R ,  4J100BC68R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA04 ,  4J100GC22 ,  4J100HA53 ,  4J100HC09 ,  4J100HC10 ,  4J100HC25 ,  4J100HC38 ,  4J100HC43 ,  4J100HC45 ,  4J100HC63 ,  4J100HC71 ,  4J100JA38