特許
J-GLOBAL ID:200903043856490862

露光装置及び露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-072853
公開番号(公開出願番号):特開2002-270498
出願日: 2001年03月14日
公開日(公表日): 2002年09月20日
要約:
【要約】【課題】 焦点深度が浅く設定された投影光学系を介してマスクに形成されたパターンの像を基板の転写面に転写する場合に、基板の転写面に大きな段差を有するパターンが形成されていても、その表面形状に応じて適切な露光条件により基板を露光することができ、その結果として微細なパターンを高い精度で形成する際に用いて好適な露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 多点フォーカス位置検出系21によって予めウェハWの転写面の形状を計測し、この計測結果に応じて主制御系20が投影光学系PLの焦点位置に対するウェハWの位置、走査方向におけるウェハWの傾斜角、及び走査方向に直交する方向におけるウェハWの傾斜角の少なくとも1つの制御特性を変えて制御する。ここで、例えばウェハWの露光面上に大きな段差が形成されてる箇所において上記制御系を変更する。
請求項(抜粋):
所定形状に整形された露光光をマスクに露光し、当該マスクと基板とを同期走査しつつ投影光学系を介して当該マスクに形成されたパターンを当該基板の転写面に転写する露光装置において、前記基板の転写面の形状を計測する形状計測装置と、前記パターンの転写時における前記投影光学系の焦点位置に対する前記基板の位置、前記マスクと前記基板との走査方向における前記基板の傾斜角、及び当該走査方向に直交する方向における前記基板の傾斜角の少なくとも1つの制御特性を前記形状計測装置の計測結果に応じて変更する制御装置とを具備することを特徴とする露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G01B 11/24 ,  G03F 7/20 521
FI (6件):
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  G01B 11/24 A ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 526 B
Fターム (23件):
2F065AA25 ,  2F065AA56 ,  2F065CC20 ,  2F065DD10 ,  2F065FF10 ,  2F065FF61 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065MM22 ,  2F065NN15 ,  2F065PP12 ,  2F065PP23 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ28 ,  2F065TT02 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14

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