特許
J-GLOBAL ID:200903043867082332
汚水の曝気処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-094423
公開番号(公開出願番号):特開2003-290788
出願日: 2002年03月29日
公開日(公表日): 2003年10月14日
要約:
【要約】【課題】 汚水の処理効率の低下を十分に防止できる汚水の曝気処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、散気装置6を有する複数の散気ユニット1a,1bを用いて処理槽2内の汚水を曝気処理する汚水の曝気処理方法において、散気ユニット1aを処理槽2から引き上げると共に、残りの散気ユニット1bにより汚水の曝気処理を行う工程を含む。この方法によれば、一部の散気ユニット1aのみが引き上げられるため、全部の散気ユニット1a,1bが引き上げられる場合に比べその散気ユニット1aにおける散気装置6の洗浄やメンテナンス等にかかる時間を短縮でき、その一部の散気ユニット1aを短時間で汚水中に戻すことができる。また散気ユニット1aが洗浄されている間、残りの散気ユニット1bで汚水の曝気処理が行われるため、汚水の曝気処理を中断せずに行える。
請求項(抜粋):
少なくとも1つの散気装置を有する複数の散気ユニットを用いて処理槽内の汚水を曝気処理する汚水の曝気処理方法において、前記複数の散気ユニットのうちの一部の散気ユニットを前記処理槽から引き上げると共に、残りの散気ユニットにより前記汚水の曝気処理を行う工程を含むことを特徴とする汚水の曝気処理方法。
IPC (5件):
C02F 3/20
, B01F 3/04
, B01F 5/06
, B01F 15/00
, C02F 3/12 ZAB
FI (5件):
C02F 3/20 Z
, B01F 3/04 A
, B01F 5/06
, B01F 15/00 Z
, C02F 3/12 ZAB A
Fターム (9件):
4D028BC24
, 4D029AA01
, 4D029AB07
, 4D029DD01
, 4G035AB11
, 4G035AC26
, 4G035AE19
, 4G037DA14
, 4G037EA01
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開昭49-097453
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特開昭58-219996
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ディフューザー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-149506
出願人:日本碍子株式会社
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分離膜モジュールの洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-117285
出願人:三菱レイヨン株式会社
-
分離膜による濾過方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-311614
出願人:三菱レイヨン株式会社
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特開昭49-097453
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特開昭58-219996
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オキシデーションディッチ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-104234
出願人:日本鋼管株式会社
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