特許

J-GLOBAL ID：200903043868444955

自動前処理機能付ガスクロマトグラフ

発明者： 河原井 雅子 ,  横倉 武文 ,  甲田 公良 ,  中川 勝博
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立サイエンスシステムズ
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-164729
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337078
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】従来、試料前処理には多大の時間と人手がかかっていた。また、人的誤差による測定精度のばらつきが大きかった。さらに、濃縮専用装置は高価である。【解決手段】個々に温度制御が可能な複数の恒温槽をつなぎ、その中の吸着管・カラム・試料溜め・複方バルブの温度と切り替えタイミングを制御することにより、抽出・濃縮・精製・誘導体化の試料前処理を自動化する。【効果】実試料を直接注入するだけで、試料前処理を自動で行い、測定結果を得られる。試料量は従来の1/1000で測定できる。高価な前処理装置が不要となる。

請求項（抜粋）：

複数の恒温槽より成り、該恒温槽が個々に温度制御が可能なガスクロマトグラフ。

IPC (6件)：

G01N 30/54 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 1/10 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/62 ,  G01N 30/06

FI (6件)：

G01N 30/54 F ,  G01N 1/00 101 L ,  G01N 1/10 C ,  G01N 27/62 C ,  G01N 30/06 Z ,  G01N 1/28 K