特許
J-GLOBAL ID：200903043873556427
荷電粒子ビーム露光方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-061531
公開番号（公開出願番号）：特開平7-272995
出願日： 1994年03月30日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 荷電粒子ビーム露光方法及び装置に関し、上位計算機及びステージ制御部への負荷を軽減し、ステージの移動をきめ細かく、且つ、高精度に制御可能とすることを目的とする。【構成】 露光を施される基板が載置されるステージ13を連続的に移動しながらメイン偏向手段15及びサブ偏向手段16により荷電粒子ビームを偏向して前記基板上の照射することにより露光を行う荷電粒子ビーム露光方法において、該メイン偏向手段15において荷電粒子ビームを偏向可能な可描画範囲内で、該ステージ13の移動方向に並んだ複数のセル領域からなるフレーム領域を定義して、該フレーム領域内各セル領域内での露光可能なステージ移動速度に基づいて該フレーム領域に対するステージ移動速度の最適予定軌跡を表すステージ移動情報を算出する第1のステップと、該ステージ移動情報に基づいてステージ移動速度を可変制御することにより該メイン偏向手段15の偏向位置を該可描画範囲内に制御する第2のステップとを含むように構成する。
請求項（抜粋）：
露光を施される基板が載置されるステージ(13)を連続的に移動しながらメイン偏向手段(15)及びサブ偏向手段(16)により荷電粒子ビームを偏向して前記基板上の照射することにより露光を行う荷電粒子ビーム露光方法において、該メイン偏向手段(15)において荷電粒子ビームを偏向可能な可描画範囲内で、該ステージ(13)の移動方向に並んだ複数のセル領域からなるフレーム領域を定義して、該フレーム領域内各セル領域内での露光可能なステージ移動速度に基づいて該フレーム領域に対するステージ移動速度の最適予定軌跡を表すステージ移動情報を算出する第1のステップと、該ステージ移動情報に基づいてステージ移動速度を可変制御することにより該メイン偏向手段(15)の偏向位置を該可描画範囲内に制御する第2のステップとを含む、荷電粒子ビーム露光方法。
引用特許：
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