特許
J-GLOBAL ID：200903043901491395
フオトマスクの異物除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
早瀬 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-299894
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107744
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスク上に付着した異物をフォトマスクにキズをつけることなく完全に除去する方法を得る。【構成】 異物3が付着したフォトマスク上にポリマーの膜4を形成し、このポリマー膜4を除去することにより、同時に異物3も除去する。
請求項（抜粋）：
異物が付着した、フォトマスク基板上にフォトマスクパターンを形成しているフォトマスク上にポリマーの膜を形成し、次に、該ポリマー膜を除去することにより前記異物を除去することを特徴とするフォトマスクの異物除去方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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