特許

J-GLOBAL ID：200903043910016020

新規化合物

発明者： バレット デイビッド ,  田中 明 ,  沖津 修 ,  原田 敬子 ,  大木 秀徳 ,  山中 秀昭 ,  川端 浩二
出願人/特許権者： 藤沢薬品工業株式会社
代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-301639
公開番号（公開出願番号）：特開2000-229998
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【解決手段】下記一般式(I):[式中、R1はアルキル基等、R2は次式(式中、R3およびR4は、同一または異なっていてもよく、水素、または低級アルコキシカルボニル基等を意味する)等、Aは低級アルキレン基、R11はヒドロキシ基等、R12は水素等、R13は水素等、R14はカルバモイル基等、ZはOまたはN-R15(式中R15は水素またはアルキル基)、Pは(CH2)n(式中、nは0または1)をそれぞれ意味する。]で表される化合物およびその塩。【効果】本発明の化合物またはその塩は抗菌活性を有する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I):[式中、R1は水素、アルキル基、低級アルコキシアルキル基、カルボキシ基、適当な置換基を有していてもよいカルバモイル基、適当な置換基を有していてもよいアリール基、適当な置換基を有していてもよいアル(低級)アルキル基、または適当な置換基を有していてもよい複素環式カルボニル基、R2はカルボキシ基、保護されたカルボキシ基、適当な置換基を有していてもよい複素環式カルボニル基、次式(式中、R3およびR4は、同一または異なっていてもよく、水素;または、それぞれが適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基、スルホニル基、カルバモイル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、アル(低級)アルコキシカルボニル基、複素環式カルボニル基、アロイル基またはシクロ(低級)アルキルカルボニル基を意味する)、または次式(式中、R5は同一または異なっていてもよく、適当な置換基を有しいてもよい低級アルキル基または低級アルケニル基、Xは酸残基を意味する)、Aは低級アルキレン基、R11はヒドロキシ基または適当な置換基を有していてもよい低級アルコキシ基、R12は水素またはハロゲン、R13は水素、ニトロ基、アミノ基、アシルアミノ基または、R11とR13とが結合して形成する次式から選ばれる二価の基、R14はシアノ基、適当な置換基を有していてもよいカルバモイル基、アミノ(低級)アルキル基または保護されたアミノ(低級)アルキル基、ZはOまたはN-R15(式中R15は水素またはアルキル基)、Pは(CH2)n(式中、nは0または1)をそれぞれ意味する。]で表される化合物およびその塩。

IPC (5件)：

C07K 11/02 ,  A01N 43/36 ,  A01N 43/46 ,  A61K 38/00 ,  A61P 31/10

FI (5件)：

C07K 11/02 ,  A01N 43/36 B ,  A01N 43/46 ,  A61P 31/10 ,  A61K 37/02