特許

J-GLOBAL ID：200903043931788856

スピン処理装置

発明者： 廣瀬 治道
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-097466
公開番号（公開出願番号）：特開2001-276714
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】 この発明は回転テ-ブを回転させて基板を処理する際、基板から飛散する処理液によって基板が汚染されにくいようにしたスピン処理装置を提供することにある。【解決手段】 処理槽5内に設けられ周壁に通孔が形成され内部を処理空間部17とするとともに、その周壁外周面と上記処理槽の内周面との間に排気空間部21を形成する筒状体16と、筒状体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転テーブル8と、上記処理槽の底部に上記排気空間部に連通して設けられ上記回転テーブルを回転させて上記基板を上記処理液によって処理したときに上記処理空間部に滴下する処理液を排出する排液管28と、上記排気空間部に連通して設けられ上記処理空間部の気体を上記筒状体の通孔を通じて吸引排出する排気管22とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板を回転させることで、この基板に処理液を噴射して所定の処理を行うスピン処理装置において、処理槽と、この処理槽内に設けられ周壁に通孔が形成され内部を処理空間部とするとともに、その周壁外周面と上記処理槽の内周面との間に排気空間部を形成する筒状体と、この筒状体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、この回転テーブルを回転駆動する回転駆動手段と、上記処理槽の底部に上記排気空間部に連通して設けられ上記回転テーブルを回転させて上記基板を上記処理液によって処理したときに上記処理空間部に滴下する処理液を排出する排液管と、上記排気空間部に連通して設けられ上記処理空間部の気体を上記筒状体の通孔を通じて吸引排出する排気管とを具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (4件)：

B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (11件)：

2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096GA17 ,  2H096GA29 ,  2H096LA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA06 ,  4F042CC03 ,  4F042EB05 ,  4F042EB24 ,  5F046MA10