投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350069
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160003
出願日： 1991年12月10日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【目的】間接方式で合焦を行う場合に計測手段の原点のキャリブレーションを容易且つ迅速に実行できるようにする。【構成】ウェハ9の感光面と略同一面内に設置された基準パターン板8と、この基準パターン板を底面側から透過して投影光学系6を介してマスクMに照射され、このマスクMの裏面から反射されてその投影光学系及びその基準パターン板を介して戻された光束を受光して、その基準パターン板の合焦状態を示すキャリブレーション信号S1を出力する受光手段10〜14と、その投影光学系に対して固定された光束を用いて基準パターン板の投影光学系の光軸方向の位置を示す焦点位置検出信号S2を得る焦点位置検出手段17,18とを有する。

請求項（抜粋）：

所定の露光光を用いてマスクパターンを投影光学系を介してステージ上の感光基板に転写する露光装置において、前記感光基板の感光面とほぼ同一の面内に設置された基準パターンと、この基準パターンの下面より前記露光光の波長と同一又は近傍の波長の照明光でこの基準パターンを照明する照明手段と、前記基準パターンを透過して前記投影光学系を介して前記マスクのパターン面に照射され、該パターン面から反射されて前記投影光学系及び前記基準パターンを介して戻された光束を受光して、前記基準パターンの合焦状態を示す第1の検出信号を出力する合焦状態検出手段と、前記投影光学系に対して固定された光束を用いて前記感光基板の前記投影光学系の光軸方向の位置に応じて変化する第2の検出信号を得る焦点位置検出手段と、この第2の検出信号が所定の擬似合焦レベルになるように前記ステージの前記投影光学系の光軸方向の位置決めを行う合焦手段と、前記ステージを前記投影光学系の光軸方向に移動させたときに得られる前記第1の検出信号に基づいて、前記第2の検出信号または擬似合焦レベルのオフセットを調整する校正手段とを具備する事を特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平1-273318
特開昭60-018738
特開昭63-213341

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審査官引用 (15件)

特開昭60-026343
特開平1-273318
特開昭60-026343

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