特許
J-GLOBAL ID：200903043949604639
高圧ピークパルス印加併用式グロー放電処理方法及びそのグロー放電処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡村 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-187346
公開番号（公開出願番号）：特開2000-017420
出願日： 1998年07月02日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：
【要約】【課題】 後工程を施すことなく窒化層、拡散層を極力、処理対象物の奥深くまで厚く形成すること、グロー放電処理時間の短縮化を図ること。【解決手段】 主回路により発生したインバータ周波数を10KHz とする約900 Vのパルス状のグロー放電電圧が処理容器(陽極)に供給され、処理容器内の処理対象物にグロー放電処理が施される。これと同時に、グロー放電電圧のデッドタイム期間DTの開始後から所定微小時間Δtだけ遅らせて、インバータ周波数を100KHz とする、例えば約10KVのアーク放電領域に属する高圧ピークパルスが高圧ピークパルス用陽極に供給され、処理容器に収容された処理対象物に対してこの高圧ピークパルスにより放電処理が施されるので、アーク放電電流が流れた局部のみに限って局部温度上昇し、原子間距離が拡大して窒化鉄FeN から分離した窒素Nが処理対象物の奥深く浸透し、窒化層、拡散層を短時間で深く形成することができる。
請求項（抜粋）：
整流平滑回路とインバータ回路と昇圧トランスと整流器とを含む主回路により交流電圧を整流してパルス状の放電電圧を発生させ、その放電電圧で容器内にグロー放電を発生させて容器内の処理対象物にグロー放電処理を施すグロー放電処理方法において、アーク放電領域に属する高圧ピークパルスを処理対象物に印加し、その高圧ピークパルスによる放電処理を併用してグロー放電処理を施すことを特徴とする高圧ピークパルス印加併用式グロー放電処理方法。
Fターム (3件)：
4K028BA02
, 4K028BA12
, 4K028BA21
